第347章 半导体产业会议
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的是，海湾科技继续努力，争取三年一个台阶，在解决28纳米工艺之后，三年内解决可以进行双重曝光，能够把工艺下探到10-22纳米工艺的光刻机。
至于更进一步，甚至能够进行四重曝光的光刻机，乐观估计，五年内能够解决就是巨大的胜利。
但是让人没有想到的是，海湾科技在突破了DUV浸润式光刻机的关键技术后，在小型号的快速迭代上进展迅速，几乎一年一个台阶。
去年推出HDUV-500型光刻机，把套刻精度做到了三点五纳米，实现了双重曝光的基本需求，可以用来做十四纳米工艺的芯片，一开始的性能上基本和NXT1965相当，但是不太成熟。
后来海湾科技推出了升级型号HDUV-500A，虽然工作台产能一样，不过性能更好，更稳定，这款光刻机的性能除了产能低一些，其他性能指标基本上和NXT1970持平。
而智云微电子以及隔壁的中芯，还有国内其他一些芯片厂商大规模采购的海湾科技的先进光刻机，其实都不是HDUV-500型号，而是HDUV-500A型。
去年搞出来500型号就已经够夸张的了，结果海湾科技愣是在今年六月份的时候，就交付了更新一代的HDUV-600型，把套刻精度直接拉到了二点五纳米的水准。
这一型号的核心性能水准，已经和NXT1980相当了……虽然还是有着老毛病，因为工作台不太行，所以生产效率低，后续的维护也会比较麻烦，但是还是太吓人了。
而要知道，虽然去年ASML就已经搞出来了NXT1980光刻机，但实际上大规模出货也是在今年年初而已。
而海湾科技的同级别光刻机大规模出货，则是迟了半年左右！
这意味着，双方之间的差距从之前的十多年，再到四五年，然后又缩小到了现在的半年。
这一系列的技术进步速度，让很多人都感觉到不可思议。
别说外人不信了，自己人都不信……太尼玛夸张了。
因此很多人也怀疑，海湾科技是不是抄袭了ASML的技术……还别说，他们没怀疑错，海湾科技还真就直接对着ASML的光刻机抄。
抄就抄了，也没啥好丢人的，毕竟技术路线就那么几条，总不能人家在前头走过的路，海湾科技就不能走了啊。
徐申学也好，海湾科技的研发人员也好，从不避讳这些，能抄就抄，抄不了硬抄……银河安保那边每年都送回来不少技术资料呢，这些技术资料不少都是带着血的，你说不抄就不抄啊？
再者光刻机这东西，原理其实全世界都知道，甚至详细结构的示意图这些都能直接在互联网上搜索到。
但是知道原理，知道结构的人多了去，然而能够真正做出来这种级别光刻机的厂商，目前只有两家：ASML以及海湾科技。
这种级别的东西，把所有详细设计图全部送给你抄，还手把手教你，做不出来就是做出来，海湾科技得到EUV光源系统的完整设计资料都好几年了，还不是没能搞出来……
因为难的
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