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六月二十六日，徐申学视察了海湾科技，看到了已经处于量产阶段的HDUV-600型光刻机。
当天晚上，海湾科技也在官网上首次公开了新一代DUV浸润式光刻机HDUV-600进入量产的消息。
并公布了该型光刻机已经交付了第一台给智云微电子，将会用于最先进的等效七纳米工艺。
这也是海湾科技首次对外公布该型光刻机的消息，包括一些详细的技术参数。
这个消息也引来了媒体、业内人士甚至普通人的诸多关注。
当天晚上，七点半新闻重点报告了该消息：本台记者消息，我国先进半导体装备企业海湾科技有限公司已经完成了最新一代DUV浸润式光刻机的研发工作。
新型的HDUV-600型光刻机已经达到国际领先水平，填补了我国尖端半导体装备领域的空白，有力促进了我国半导体制造行业的发展。
海湾科技负责人王道林表示，HDUV-600光刻机的各项技术参数已经达到国际领先水平，乃是当下最先进的光刻机，可以用来制造最低七纳米工艺的芯片
一项设备的研发成功，能够做到上七点半新闻报道的程度，那可不容易，很少有设备能够做到这种程度的。
但是光刻机却是可以！
实际上，这不是海湾科技第一次上七点半新闻，实际上之前在HDUV-400光刻机，也就是第一代DUV浸润式光刻机研发成功后，就已经上过七点半新闻了，而当时的报道时长更长，更重视，还伴随着重要人员的视察……
当时电视报道画面，徐申学都只能站在一旁担任解说，为一群来宾介绍海湾科技的HDUV-400型光刻机，陈述该型光刻机的重要历史意义以及现实意义。
现在报道HDUV-600型光刻机的待遇，说实话都差了点……不过好歹也是关键技术突破，所以常规报道还是会有的。
HDUV-600型研发成功并交付量产，这让国内很多人，尤其是一些自诩业内人士都感叹：是我太保守了。
前几年海湾科技搞出来HDUV-400型号光刻机的时候，也引起了一片舆论的狂欢，不少业内人士也积极参与讨论。
当时也有相关的探讨，那就是：
海湾科技的光刻机，什么时候才能够追上ASML的水准。
毕竟当时的HDUV-400光刻机，其性能也就大概和NXT-1950相当。
而NXT1950出现的时候，那已经是2008年的事了，而该款光刻机也是推动半导体的芯片工艺从以往的六十五纳米，下探到32/28纳米工艺的核心设备。
或者说，正是因为有了这款光刻机，才让32/28工艺具备了大规模量产的可行性。
海湾科技可是花了好多年才弄出来了核心性能相当，但是生产效率还差一些的HDUV-400型光刻机……但是，这款光刻机历史意义重大，因为该款光刻机的出现，意味着海湾科技突破了一系列DUV浸润式光刻机的关键技术。
当时，人们所畅想
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